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[서울=NSP통신] 이상철 기자 = 에스앤에스텍(101490)은 대면적 투과제어 블랭크마스크 및 이를 이용한 대면적 투과제어 포토마스크의 제조방법 관련 특허를 취득했다고 5일 공시했다.

회사 측은 “이번 특허가 대면적 TM 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상은 물론 회사의 새로운 성장동력이 될 것”이라고 밝혔다.

이상철 NSP통신 기자, lee21@nspna.com
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